Au cours de son stage, le candidat abordera la fabrication d’éléments optiques diffractifs par photolithographie, participera à l’amélioration du procédé, et à la caractérisation optique de ces éléments.

Dans une seconde partie, les éléments optiques précédemment réalisés seront copiés avec une méthode jusqu’à ici non explorée au laboratoire d’embossage à chaud sur du PMMA. Aussi un élément de démonstration d’excellente qualité sera à réaliser. Le stage abordera également la découpe, par scie diamant et/ou laser, des substrats comportant les composants en EOD individuels plus adaptés à la miniaturisation des systèmes optiques dans lesquelles ils sont utilisés.

Le candidat devra faire preuve d'autonomie, de curiosité et avoir le goût de l'expérimentation et du travail en laboratoire (optique et salle blanche). La capacité à travailler en groupe est aussi essentielle.

Un niveau d'anglais suffisant pour lire la documentation technique est nécessaire.

Mr Le Palud
Responsable des stages
La référence SICS/44367 est interne à l'IUT. Ne pas la mentionner dans votre candidature.